凌玮科技申请光学薄膜用二氧化硅开口剂的制备方法专利，光学薄膜用二氧化硅孔容大、粒径小、电导率低，有很好的开口性和透明性

金融界2024年7月2日消息，天眼查知识产权信息显示，广州凌玮科技股份有限公司申请一项名为“一种光学薄膜用二氧化硅开口剂的制备方法“，公开号CN202410265781.0，申请日期为2024年3月。

专利摘要显示，本发明属于光学薄膜开口剂的技术领域，具体涉及一种光学薄膜用二氧化硅开口剂的制备方法，包括如下步骤；S1、保持反应釜A的温度为200～300℃、压力为0.3～1.0Mpa，将水玻璃溶液W1和硫酸F1同时注入到反应釜A中，并保持pH 0.5～2.0，形成二氧化硅溶胶；S2、将硅溶胶转至反应釜B中，保持温度为15～25℃，同时乳化、分散，并调节pH为10～12，再将水玻璃溶液W2和硫酸F2同时加入到反应釜B中，加完后升温至80～100℃老化，调节pH为3.0‑5.0，经陈化形成二氧化硅沉淀；S3、将沉淀洗涤，再进行湿法研磨；S4、对浆料进行喷雾干燥即得。该方法合成的光学薄膜用二氧化硅孔容大、粒径小、电导率低，在光学薄膜领域具有很好的开口性和透明性，已成功应用于光学薄膜领域。

本文源自：金融界

作者：情报员