由英特爾搶下 ASML最新EUV有多神？一台要靠13個貨櫃運送

ASML在社群媒体中贴出首台Ｈigh-NA EUV交货至英特尔，设备大小跟货柜相去不远。图／翻摄自ASML社群平台X

艾司摩尔（ASML）已开始将第一台最新半导体先进制程设备「高数值孔径极紫外光」（High-NA EUV）系统出货给英特尔，将用于英特尔的18A半导体制程。这款EUV曝光机造价昂贵，据信每台要价约3亿美元至4亿美元。

根据资讯科技网站Tom's Hardware报导，正如ASML在9月所宣布，该公司本周开始把高数值孔径EUV微影设备运送给英特尔。这款机台是从ASML荷兰总部所在地的费尔德霍芬，运到英特尔在美国奥勒冈州D1X厂，并且要在接下来几个月内在当地进行安装。

这款高数值孔径EUV体积庞大，组装后比一辆卡车还大，要靠250个独立货箱运送，其中包括13个大型货柜。至于价格方面，根据ODDO BHF分析师团队上个月在报告中估计，ASML这套最先进制程设备，一套的价格大约2.5亿欧元（2.75亿美元）。它的第二代，生产力将会再提高，价格预料会超过3.5亿欧元。另据Tom's Hardware的报导，据信，每一台高数值孔径EUV曝光机的价格介于3亿美元至4亿美元。

ASML这次出货给英特尔的机台，是英特尔在2018年采购的试验款Twinscan EXE:5000设备。英特尔将用它来加强学习如何使用高数值孔径EUV机器投入其18A制程技术，以便在2025年部署商业等级Twinscan EXE:5200机台进行量产前获得宝贵经验。英特尔希望能够透过18A制程超车台积电与三星电子的技术。

这款最新的EUV微影设备，预计将让数值孔径从0.33提高至0.55，让解析度从13奈米提升至8奈米，预料将对打造2奈米与更先进的制程技术发挥关键作用。这类技术必须采用低数值孔径双图案化，或者使用高数值孔径单图案来完成。

Tom's Hardware的报导指出，由于高数值孔径EUV与低数值孔径EUV之间存在许多差异，需要进行大量的基础设施调整，现在英特尔能比竞争同业抢先几季部署这款设备，有利于取得巨大优势。一方面，英特尔将有大量时间可调整后18A的制程技术

需要对基础设施进行大量更改，因此领先竞争对手几个季度部署Twinscan EXE对英特尔来说可能是一个巨大的优势。一方面，英特尔将有充足的时间来调整其后18A制程技术。另一方面，英特尔将自行调整高数值孔径机台，比对手抢先一步。