ASML高規EUV出貨台積電

荷兰晶片制造设备商艾司摩尔（ASML）表示，今年将首次出货高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备给台积电（2330）。

Jefferies分析师预计，台积电将在2028年生产A14制程的晶片时，采用这项技术。

彭博资讯报导，艾司摩尔表示，该公司财务长达森（Roger Dassen）在近期的电话会议上告诉分析师，台积电和英特尔这两家大客户，将在今年底前取得High-NA EUV机台。

英特尔先前就已经订购，并在去年12月底获得第一台High-NA EUV设备，运到该公司位于奥勒冈州的工厂，并已完成组装。

目前不确定台积电何时会收到。一名台积电代表说，正与供应商密切合作，拒绝进一步置评。