英特爾搶到第一 獲ASML出貨最先進EUV機台

艾司摩尔（ASML）员工去年1月在总部工厂的High NA EUV设备前合影。 路透

艾司摩尔（ASML）说，已经开始将第一套最新半导体先进制程设备「高数值孔径极紫外光」（High-NA EUV）系统的主要部分出货给英特尔（Intel）。未具名的知情人士告诉彭博资讯，这套最尖端晶片制造设备，是送到英特尔位于美国奥勒冈州的工厂。

ASML在社群平台X上贴出照片说：「我们很兴奋也很骄傲，运送第一套High-NA EUV到英特尔。」

据了解，ASML这套最先进微影设备的主要机件，已经运抵英特尔奥勒冈州D1X厂。彭博向英特尔与ASML查证时，两家公司都不评论机器设备的目的地。

彭博分析指出，High-NA EUV制程技术对ASML与英特尔都非常重要。英特尔执行长基辛格承诺要最先拿到这款最新型的机器，展现英特尔重新投入制造技术第一线。ASML推出最新的High-NA EUV设备，目标在保持晶片厂对其设备的依赖。

去年ASML曾经在一份声明中提到，英特尔计划2025年开始以这套最新设备生产先进制程晶片。英特尔的D1X厂是公司研发与精进优化未来生产技术的设施。

ASML是全球最大的微影系统设备供应商，微影技术应用于先进晶片关键制程。独家制造的极紫外光（EUV）设备，供应给台积电、三星电子和英特尔生产最先进晶片。

ODDO BHF分析师团队上个月在报告中估计，ASML这套最先进制程设备，一套的价格大约2.5亿欧元（2.75亿美元）。它的第二代，生产力将会再提高，价格预料会超过3.5亿欧元。