超强台积电 7奈米2018年试产
晶圆代工龙头台积电(2330)全力冲刺先进制程，迎接源源不绝物联网商机。根据台积电2014年报中指出，16奈米鳍式场效电晶体强效版(16FF+)制程技术，于去年第4季已完成所有可靠性验证，今年7月可望进入量产阶段，预期年底前将可完成近60件客户产品设计定案，此外，10奈米制程也预计于明(2016)年开始量产，至于7奈米先进制程则将于2018年进行试产。
从制程进度来看，去年台积电主宰市场的28奈米制程技术，已有多项显著进展，这些强化制程及多样化延伸，协助台积电得以继续保持全球市占领先地位，另外，为满足客户日益精进需求，针对超低功耗产品所新推出的28奈米超低耗电制程(28ULP)，可近一步协助客户扩展至物联网及穿戴式装置领域。
去年中旬台积电20奈米制程进入量产后，对第4季营收贡献迅速攀升至21%，缔造史上制程量产最快纪录，借由双重曝光技术推出，20奈米系统单晶片制程(20SoC)提供更优异的晶片闸密度与功耗优势，有效支援效能驱动的产品并协助行动运算应用的演进，至于16奈米鳍式场效电晶体强效版制程(16FF+)拥有完备设计生态环境，能够支援多样化的设计工具，以及超过100件通过矽晶验证的矽智财，今年底前将可完成近60件客户产品设计定案。
值得一题的是，台积电目前正加速10奈米技术设计生态环境布建，不仅及早开始矽智财验证程序，而且已完成超过35件设计工具验证，至于7奈米先进制程技术，也已经进入进阶开发阶段，今年将着重电晶体结构选择、电晶体与导线基本制程制定，以及初步可靠性评估，除了矽晶元件微缩，也正透过先进封装技术进行系统微缩，增加系统传输频宽、减少功耗以及缩小元件尺寸。
去年台积电引进第2台NXE3300极紫外光(EUV)曝光机，目前正与艾司摩尔(ASML)合作提升设备能力，以期达到对7奈米先进制程技术要求，同时也针对7奈米以下制程，开始评估多重电子束直写技术，加速新世代半导体先进制程相关研发，在半导体下一个大趋势来临时，扮演带动产业向上提升不可或缺的重要推手。