台积 再抢近半EUV曝光机

台积电及三星之EUV曝光机采购量

晶圆代工龙头台积电（2330）全力冲刺5奈米及3奈米先进逻辑制程产能，并扩大采购关键的极紫外光（EUV）曝光机。据外媒报导，艾司摩尔（ASML）2022年EUV曝光机出货量预估将达51～55台，其中台积电取得22台最多，等于稳坐拥有全球最大EUV产能半导体厂宝座。

在地缘政治竞争下，各国积极扶植本土半导体产业的先进制程技术研发及产能布建，EUV机台成为关键设备。法人看好EUV生态系统未来扮演关键角色，包括极紫外光光罩盒（EUV Pod）供应商家登、EUV设备模组代工厂帆宣、精密零组件供应商公准，EUV晶圆真空吸盘供应商意德士等直接受惠。

由于先进逻辑制程由5奈米推进到3奈米，单片晶圆EUV光罩层数倍增，至于DRAM厂也开始在1a奈米后导入EUV技术量产，因此包括台积电、三星、英特尔、SK海力士、美光等半导体大厂，已开始争相抢夺关键的EUV曝光机。业界人士指出，只要取得EUV曝光机就等于在先进制程市场居于不败之地。

根据外媒消息，ASML预计2021年EUV曝光机出货48台，其中台积电拿下22台，三星拿下15台。至于2022年预计EUV曝光机出货51～55台，台积电取得22台，三星将取得18台。业界分析，台积电来说，2017～2022年共拿下84台EUV曝光机，占ASML累计出货量逾半，这也是台积电得以在7奈米及5奈米等先进制程市场独占鼇头的原因。

台积电于今年技术论坛中指出，以EUV曝光机的累计装机数量来看，到2020年已占全球总机台数量的50％，2020年为止采用台积电EUV技术生产的晶圆，占累计EUV曝光晶圆数的65％。以台积电2021～2022年采购量来看，EUV曝光机累计装机数量占全球总机台数量比重将持续过半。

台积电EUV曝光机装机数量大跃进，也代表未来几年在3奈米及2奈米等先进制程市场持续维持领先地位。台积电指出，随着制程推进至5奈米，每片晶圆采用EUV光罩层大幅拉升，台积电预估2021年EUV光罩护膜产能将是2019年的20倍。业界预期2022年进入3奈米世代，EUV光罩护膜产能将呈现等比级数增加，稳坐拥有全球最大EUV产能半导体厂宝座。