台版晶片法即将申报 会计师提醒4大步骤

安永联合会计师事务所。（图／安永联合会计师事务所）

《产创条例》10之2，也就是俗称《台版晶片法》即将在2月申请租税减免，安永联合会计师事务所会计师杨建华表示，企业应注意四大步骤，以利5月顺利完成申报。

第一步：检查是否符合申报门槛。主要可以区分为质化及量化两大要件。质化条件为企业须于我国境内进行技术创新且居国际供应链关键地位，并以符合公告之半导体、电动车、通讯、显示器等产业类别为主；其他量化条件则是在同一课税年度内之研究发展费用达60亿元、研究发展费用占营业收入净额比率达6％，以及购置全新先进制程设备金额达100亿元，公司应先行自我检视。

第二步准备相关资料。除了备妥前瞻创新研发活动及须经核准之支出项目之相关文件，如研发计划书，并须依购置形式，检附相关单据及付款证明文件等等。建议符合条件之公司可以至经济部产业发展署网站下载相关书表填写，网站上的书表已整理相当完整，应提示的资料亦于书表中一一列明，建议可以依其书表所列作准备，较不会遗漏。

第三步于2月至5月期间，向经济部提出申请。申请仅采书面申请，无网路申请。另外晶片法租税优惠无法和其他租税优惠并用，特别提醒公司务必在申请书勾选同意变更适用《产业创新条例》第10条研发投资抵减、第10-1智慧机械投资抵减之规定，才能在资格不符时，转而适用其他的租税优惠。同意变更之声明应与营所税结算申报一致。

第四步于5月向税捐稽征处提出申请。公司须于5月1日至5月31日止，再次检具相关文件，在办理营所税结算时申报租税减免。如果漏未于营所税结算申报时填报相关表格及检附文件，虽已向经济部提出申请，仍无法适用，宜特别注意。