解决晶片光刻机「卡脖子」难题 北京清大SSMB最新研究出炉
▲光刻机的制造在大陆发展晶片事业中，扮演关键角色。（图／翻摄腾讯新闻）
北京清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与国外合作团队昨（25）日在《自然》（Nature）上发表《稳态微聚束原理的实验演示》的研究论文，完成一种新型粒子加速器光源「稳态微聚束」（SSMB）的首个原理验证实验。唐传祥认为，基于SSMB的EUV光源，将有望解决自主研发晶片光刻机中最核心的「卡脖子」难题。
▲北京清大团队研究的「稳态微聚束」，将是解决大陆制造光刻机「卡脖子」问题。（图／视觉中国）
《北京青年报》报导，在晶片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路晶片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，晶片业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5奈米光源的EUV（极紫外光源）光刻。
▲大陆最好的光刻机为上海公司生产的90奈米光刻机。（图／视觉中国）
荷兰ASML公司是目前世界上唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机售价超过1亿美元。不过，大陆受限于《瓦圣纳协定》，ASML至今没有发出EUV光刻机出口的许可证，至于中阶光刻机出口大陆也有附加条款，禁止给大陆自主CPU代工，以至于目前大陆最好的光刻机，仅为上海生产的90奈米光刻机。
唐传祥认为，EUV光刻机的自主研发仍有很长的路要走，但基于SSMB的EUV光源，有望解决自主研发光刻机中最核心的「卡脖子」难题，「这需要持续科技攻关，也需要上下游产业链的配合，才能获得真正成功。」