连两年创高！台积电大幅上调资本支出至280亿美元 法人惊艳
▲台积电法说会宣布大幅上调资本支出，连两年创高。（图／资料照）
台积电（2330）今（14）日宣布，资本支出预计介于250亿美元到280亿美元，突破去年前高172亿美元，连两年创高，且较去年大增45%-62%，优于法人预期。台积电表示，今年资本支出，80%会使用在先进制程，包含3奈米、5奈米及7奈米技术等；10%用于先进封装及光罩制作；另外10%用于特殊制程。
台积电总裁魏哲家表示，投入年度资本支出是基于对未来数年成长的预期所规划，主要考量四大原则：技术领先、弹性并反应需求的制造能力、保有客户信任、获取适当的报酬。
魏哲家表示，台积电长期资本密集度约落在「mid-thirties（35%左右）」百分比区间，但当台积电要进入一个成长幅度更高的区间，我们必须先投入资本支出，业绩才会随之成长，在此情况下，我们的资本密集度会更高。
魏哲家举例台积电在过去资本支出投入情况，他说，像是2010年到2014年间，台积电的资本支出相较前几年增加三倍，我们当时的资本密集度约为38%到50%，也因此，台积电得以把握成长的机会，并在2010年 到2015年间可以有15%的年复合成长率。
魏哲家表示，如今，台积电进入到另一个高成长区间，公司认为较高的资本密集度在目前这阶段是适切的，并可以帮助公司掌握未来成长的机会。预期因5G及高速运算（HPC）相关应用的产业大趋势在未来几年将为公司带来更高的年复合成长率。
魏哲家表示，当先进制程资本支出因制程复杂度而持续增加时，预期透过持续强调公司的价值，包含所提供的技术、服务、品质，产能支援以及致力成本优化，能够得到相对应的报酬。
法人表示，台积电大幅调高资本支出是这次法说会主要亮点之一，台积电近年持续扩大先进制程相关之资本支出，以维持台积电技术的领先优势及攸关其竞争力所在，亦看好中长期5G/HPC成长潜力。