台积电四强连线 光速挺进２奈米

半导体制程推进2奈米时代

台积电、辉达（NVIDIA）、艾司摩尔（ASML）、新思科技（Synopsys）半导体四强决定携手合作，将辉达加速运算用在运算式微影技术领域。业者指出，当前的晶片制程已接近物理学所能达到的极限，运算式微影的创新将可协助半导体制程推进至2奈米，有利于台积电稳固全球半导体产业的领先地位。

台积电ADR 21日早盘一度上涨逾3％，股价冲上近月来新高，可望带动今日台股多头气势。

台积电在竹科宝山二期兴建Fab 20超大型晶圆厂将会用作2奈米的生产基地，并成为台积电2奈米制程的主要重镇，Fab20厂区第一期预计将会在2024年开始风险性试产，2025年开始量产，同时第二期目前正在兴建中，预期将在第一期量产后逐步开始进入风险性试产及量产。

根据四家半导体大厂的合作计划，台积电及新思科技将辉达用于运算式微影的全新cuLitho软体库整合到其软体、制程及系统中，以发挥辉达Hopper架构GPU的优势，而艾司摩尔与辉达在GPU及cuLitho方面密切合作，将对GPU的支援与都整合到所有运算式微影软体产品中。

这项进步将使得晶片上可以用比现在更精细的电晶体和线路，同时加快上市时间，且提高为推动制程而全日运作的大规模资料中心的能源使用效率。辉达创办人暨执行长黄仁勋表示，半导体产业是世界上几乎所有其他产业的基础，在微影技术现已达到物理学极限的情况下，辉达推出的cuLitho与合作伙伴台积电、艾司摩尔、新思科技合作，将协助晶圆厂提高产量、减少碳足迹，且为2奈米及更先进的制程发展奠定基础。

黄仁勋说明，在GPU上运行的cuLitho，其效能较当前的微影技术高出40倍，将可加速执行目前每年要用掉数百亿CPU小时来处理的大规模运算工作负载。cuLitho让500个H100系统可以做到相当于4万个CPU系统的工作量，平行运行运算式微影流程的所有部分，有助于减少电力需求量和降低可能影响环境的程度。

台积电总裁魏哲家并表示，cuLitho团队将旷日费时的作业交GPU来执行，在加快运算式微影技术方面获重大进展。此发展为台积电在晶片制造中更大范围地部署反向微影技术和深度学习等微影技术解决方案，开创新的可能性，为半导体微缩的持续提供重要贡献。