打破美、日垄断 陆建成首条ArF光刻胶产线

在美中科技战背景下，大陆因无法取得先进的光刻机而使得半导体的发展受到极大限制，不过，近日宁波南大光电材料公司建成大陆首条ArF光刻胶生产线，在半导体领域取得重要进展。

光刻胶（photoresist）又称光阻剂、光致抗蚀剂，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和半导体分立器件的细微图形加工，被业界视为半导体技术壁垒最高的材料之一。光刻胶又被称为「半导体工业的血液」，其对半导体产业的重要性可见一斑。

新浪财经报导，宁波市经信局日前宣布，南大光电材料公司建成大陆首条ArF光刻胶生产线，并生产一些样本送交客户测试。该条生产线所生产的ArF光刻胶，可应用于制造90奈米制程至14奈米制程的晶片。

报导指出，这条生产线完全投产后，估计每年可创造人民币10亿元的销售额。最重要的是，该产线对于打破日本和美国在光刻胶领域的长期垄断，具有一定的意义。

宁波南大光电指出，「ArF光刻胶开发和产业化项目」尚处于光刻胶样品验证阶段，还未形成量产。验证过程预计至少需要12至18个月。ArF光刻胶除了工艺要求高，还存在稳定量产周期长、风险大等特点，此外，能否取得下游客户的订单并大规模进入市场，仍存在不确定因素。

报导指出，在全球光刻胶市场上，由日本合成橡胶（JSR）、信越化学、住友、东京应化、美国陶氏等大厂所垄断，上述公司全球市占率约90％。