联电导入视觉技术 加速14奈米客制化设计

联电导入视觉技术,加速14奈米客制设计。(资料照/)

记者周康玉台北报导

联华电子今(14日) 与新思科技(Synopsys)共同宣布,将Synopsys的Custom Compiler和Laker客制化设计工具应用于联电14奈米FinFET制程。此项合作为建造和验证用于联电14奈米的业界标准iPDK,全面支援Custom Compiler提供视觉辅助方案布局流程,此突破性功能,可缩短客户于布局和连接FinFET元件所需时程

Custom Compiler作为联电14奈米制程的客户提供完整的客制化设计解决方案,是利用自其动化视觉辅助设计流程,布局设计人员所熟悉的图像使用模型,以减少编写复杂程式码及限制条件,让FinFET设计的完成时间从数天缩短至数小时

联电矽智财研发暨设计支援处林子惠处长表示,这次推出的14奈米iPDK,让客户的布局设计人员及我们的内部团队在使用Synopsys的客制化设计工具后,提升电路布局于FinFET的生产力,帮助客户在14奈米技术量产上,简化他们的设计过程

Synopsys产品销售副总Bijan Kiani表示,FinFET制程技术目前在客户的受欢迎度日益提高,而FinFET的电路布局则可能是一项挑战,与联电合作为14奈米制程启用Custom Compiler,客户可使用Custom Compiler的视觉辅助方案来提升FinFET布局的生产力。