SEMI：2027年12吋晶圓廠設備支出將達1,370億美元 創下新高

SEMI国际半导体产业协会发布《12吋晶圆厂2027年展望报告(300mm Fab Outlook Report to 2027) 》指出，由于记忆体市场复苏及对高效能运算和汽车应用的强劲需求，全球用于前端设施的12吋 (300mm) 晶圆厂设备支出预估在2025年首次突破1,000亿美元，到2027年将达1,370亿美元的历史新高。

全球12吋晶圆厂设备投资预计将在2025年成长20%至1,165亿美元，2026年将成长12%至1,305亿美元，将在2027年创下历史新高。

SEMI全球行销长暨台湾区总裁曹世纶表示，「未来几年内12吋晶圆厂设备支出预估将呈现大幅成长，反映出市场确实需要这样的生产能力，以满足不同市场对电子产品的成长需求，及人工智慧创新带来的新一波应用浪潮」。

曹世纶指出，「最新的SEMI报告也特别点出，政府增加半导体制造投资，对于促进全球经济和安全的关键重要性。这股趋势预计将有助于缩小重新崛起与新兴地区，以及亚洲历史上支出最高地区之间的设备支出差距」。

SEMI《12吋晶圆厂2027年展望报告》显示，在政府激励措施和晶片国产化政策的推动下，中国大陆未来四年将保持每年300亿美元以上的投资规模，继续引领全球晶圆厂设备支出。

受惠于高效能运算 (HPC) 应用带动先进制程节点推进扩张和记忆体市场复苏，台湾和韩国的晶片供应商预期将提高相对应的设备投资。台湾的设备支出预计将从2024年的203亿美元增加到2027年的280亿美元，排名第二；韩国则将从今年的195亿美元增加到2027年的263亿美元，排名第三。

美洲地区的12吋晶圆厂设备投资预计将成长一倍，从2024年的120亿美元提高到2027年的247亿美元；日本、欧洲和中东以及东南亚的支出预计将在2027年分别达114亿美元、112亿美元和53亿美元。

晶圆代工领域支出预计今年将下降4%来到566亿美元，部分原因是成熟节点（>10奈米）投资预估将会放缓，然为满足市场对生成式AI、汽车和智慧边缘装置的需求，此领域在所有领域中仍保持最高的成长率，设备支出从2023年到2027年预计将带来7.6%年复合成长率 (CAGR) 达到791亿美元。

资料传输频宽对于AI伺服器的运算效能至关重要，带动高频宽记忆体 (HBM) 强劲需求，导致记忆体技术的投资增加。记忆体在所有领域中排名第二，2023年到2027年的年复合成长率将达到20%。

DRAM设备支出预计将在2027年提高到252亿美元，年复合成长率为17.4%；而3D NAND的投资预计将在2027年达到168亿美元，年复合成长率为29%。

预计到2027年，类比 (Analog)、微型 (Micro)、光电 (Opto) 和分离 (Discrete) 元件领域的12吋晶圆厂设备投资将分别增加至55亿美元、43亿美元、23亿美元和16亿美元。

SEMI《12吋晶圆厂2027年展望报告》列出全球405座设施和生产线，包括预计将在未来四年内开始营运的75座设施。上一期报告的发布日期为2023年12月，本期刊载358项更新和26个新晶圆厂/生产线专案。