英特格推10nm以下的制程清洁剂　半导体展亮相

▲Entegris于6日举办五十周年暨新品发表会。（图／记者王雅贤摄）

记者王雅贤／台北报导

专以协助半导体制程相关问题的厂商英特格（Entegris）6日举办50周年记者会，并推出适用于半导体10nm制程以下的新型(post-CMP)清洁溶液。该产品也将于SEMICON Taiwan国际半导体展期间展出。

▲Entegris总裁兼执行长Bertrand Loy及英特格台湾区总经理谢俊安。（图／记者王雅贤摄）

Entegris总裁兼执行长Bertrand Loy表示，「我们都知道，在半导体制程中需要极高清洁度，有细微奈米颗粒都不行，Entegris此次推出的新型(post-CMP)清洁溶液，PlanarClean AG系列产品是专为10nm以下的制程所设计。」

Entegris表示，Entegris的PlanarClean系列产品早已被世界各地的晶圆厂使用，而为了因应于材料不断推陈出新 (如钴和钨)，先进节点的晶圆制造越来越复杂，我们重新调制 PlanarClean 溶液，提供优越清洗能力的同时，且不会损坏高阶薄膜或新材料。

英特格台湾区总经理谢俊安表示，台湾目前占公司业绩约25％，预计未来占比会持续升高，而预估业绩能成长的原因有二，全球行销副总杨文革表示，「半导体产业在台积电的带动下不断成长，从全球来看，投资半导体最远、最投入、金额最高的是台积电，另一个是，台湾产业链中可以发现有许多厂商自制化学品投资也在增加，因此台湾未来半导体产业获利增加是可预见的。」

另外，Entegris过去两年的各系列产品也将于SEMICON Taiwan国际半导体展期间展出。