联电承认营业秘密案 以17.2亿与美国司法部达成和解

联电。(图/资料画面

记者姚惠茹台北报导

联电(2303)今(29)日公告,违反联邦营业秘密保护法案件,联电已与司法部达成和解,和解协议内容业经北加州联邦地方法院判决确定,联电承认侵害一项营业秘密,同意支付美国政府6000万美元(约17.2亿台币)的罚金,并在三年自主管理的缓刑期间内与司法部合作

联电表示,在和解协议中,司法部同意撤销对联电原来的指控,包括共谋实施经济间谍活动、共谋窃取多项Micron Technology, Inc.(美光) 营业秘密和专利有关的指控,以及可能从4亿美元到87.5亿美元的损害赔偿及罚金等。

联电指出,2016年5月,联电经由经济部投审会核准,与福建省晋华集成电路有限公司签署合作协议。依据该协议,联电与晋华共同开发两代动态随机存取记忆体(DRAM)制程,协议中所开发的DRAM制程并非最新技术,而是与2012年已用于量产技术相似的旧技术。

联电说明,为了DRAM合作案公开招募工程师,不允许任何员工携带前公司资讯到联电,并针对自身与他人营业秘密已有多项保护与防免之政策措施,然而两位参与DRAM合作案的台湾美光前员工,却违反与联电签订的雇佣合约声明书,携带前公司资讯进入联电并于工作中参考。

联电补充,当联电知悉上述情事时,立即采取必要措施以确认开发的制程技术不包含任何未经授权的资讯,合作协议中所提及的第一代DRAM制程技术在2018年9月依协议移转给晋华,联电从无意图、也未移转任何未经授权的资讯给晋华。

联电进一步说明,依据美国营业秘密保护法,即使员工在公司高层不知情之情况下违反公司政策,公司对于员工行为仍须负法律责任,因此联电在和解协议中承认并接受因员工触法所造成的责任。

联电董事长洪嘉聪表示,作为引领台湾半导体业发展的公司之一,持续研发半导体及其他技术已40年,在全球半导体供应链扮演着举足轻重的角色。联电超过三分之一的营收来自美国,与美国客户供应商都有长久的业务关系。最近联电更与美国公司合作,生产对抗新冠肺炎所需的呼吸器中的半导体晶片

联电分享,数年前,联电获得政府事前核准,以自身专业知识经验,以及丰富的研发资源,参与DRAM合作开发案,因此当联电高层发现员工的不当行为时,立即采取措施,包含展开内部调查,并防止任何未经授权的资讯遭使用或外流

联电强调,有鉴于此,联电将继续落实并加强有关营业秘密保护与防免的政策与措施,包括机密资讯的监管机制、智财权保护的教育训练与稽核等,以确保日常营运符合公司智财权及资安保护政策,并欣慰与美国政府达成协议,未来公司将持续在各领域提供具有竞争力产品服务