应用材料写半导体「新剧本」 为MRAM量产助攻

▲应用材料新Endura Clover MRAM PVD系统。(图/业者提供)

记者周康玉台北报导

迎接人工智慧、大数据世代,半导体材料大厂应用材料从硬体着手,运用五大技术,推出能让磁阻式随机存取记忆体(MRAM)、可变电阻式记忆体(ReRAM)、相变化记忆体(PCRAM)等新型记忆体量产的新平台,写下半导体产业「全新剧本」(New Playbook)。

这个新平台名为新Endura Clover MRAM PVD系统,是业界首款具备量产价值的MRAM平台。

研究指出,以统合式MRAM解决方案取代微控制器中的eFlash和 SRAM,可节省高达90%的功耗。且采用单一电晶体MRAM取代六个电晶体的SRAM,可实现更高的位元密度和更小的晶片尺寸。这些功耗与面积成本优势使得MRAM成为边缘装置理想选择。

此外,相较于传统的NAND,PCRAM或ReRAM的储存级记忆体更可提供超过10倍以上的存取速度,使这些记忆体成为云端资料的首选。

应用材料半导体事业金属沉积产品处产品经理周春明表示,由于目前新的记忆体要量产仍有挑战,须在设备技术上有所突破,才能实现全面生产。因此,应用材料透过新的晶片架构(类似Google TPU)、新3D技术、微缩方法、先进封装等五大项目,来实现这个全新剧本。

周春明表示,MRAM是一种非常复杂的薄膜多层堆叠,由10多种不同材料、超过30层以上的薄膜与堆叠组成。因此应用材料推出全新整合式材料解决方案,采用MRAM的Clover PVD、PCRAM和ReRAM的ImpulsePVD,以及内建量功能,支援这些装置的量产制程

新Endura Clover MRAM PVD系统已经有至少8个大客户,包含逻辑厂、记忆体厂,其中,有5个客户用在MRAM,8个客户用在PCRAM/ReRAM,目前率先被采用的领域航太军事;未来看好更扩大至物联网车用,以及更进一步往穿戴装置、智慧手机等。

应用材料技术处长邱兴邦表示,因制程繁复,现阶段用此设备制造晶圆,一个小时仅能产出3-4片,量少但质精,然而依据不同客户需求,调整优化制程,未来一小时将会有达到10-20片晶圆的产能,并且看好5年内,就会有客户达到量产。

▼应用材料半导体事业群金属沉积产品处产品经理周春明。(图/业者提供)